WO3納米片陣列薄膜是近年來光電材料領域的研究熱點，因此，高度有序的WO3納米結構陣列薄膜的制備也深受關注。專家表示，制備有序納米結構陣列薄膜的常用方法有水熱法、模板法、化學氣相沉積法以及熱蒸發法等。其中，水熱法具有反應條件溫和、設備簡單、成本低廉且易于制備大面積薄膜等特點，因而受到眾多研究者的青睞。
更多內容請訪問：
http://www.tungsten-powder.com/chinese/tungsten_oxide.html
有專家以FTO導電玻璃為基底，無需預制WO3籽晶層，采用水熱法合成并經煅燒處理直接在FTO基底上制得WO3納米片陣列薄膜，并對其在光電化學池及染料敏化太陽能電池中的應用進行了研究。此外，專家們還考察了不同水熱合成條件對產物形貌及結構的影響，結果表明，C2042-對納米片陣列的形成具有重要的結構導向作用。
