三氧化鎢薄膜樣品在0.2％氫氣濃度中的透光率變化

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這里主要研究了0.2％氫氣濃度時三氧化鎢薄膜在室溫對氫氣的響應。以氬氣為零氣，以氫氣為標氣分別輸入配氣儀，在面板上設定需要的濃度，打開氣泵開始配氣，輸出端接入氣室。下面分別是三種制備方法的樣品經100℃干燥后在0.2％濃度氫氣氣氛中的透光率變化光譜圖，如圖4.3、4.4、4.5所示。從圖中可以看出，三氧化鎢溶膠中摻雜氯化鈀的薄膜樣品對氫氣的響應很小即透光率變化很小，且速度也慢，具體原因還在進一步研究中。摻鉑的兩種三氧化鎢摻雜薄膜樣品中，溶膠法基底相對磁控法基底來說具有響應快速（1min內達到平衡）的優點，但達到平衡點即穩態時，其透光率變化量相當。這是由于溶膠凝膠薄膜在非晶態時顯微組織疏松，有利于離子的進入，磁控濺射的三氧化鎢薄膜相對來說結構致密，影響離子進入的速度，但經過一段時間后達到了同樣的平衡點，這就說明兩種方法制作的三氧化鎢薄膜在非晶態時對鉑離化的氫原子進行了充分的吸附。在0.2％H2/Ar氣氛中摻鉑樣品的透光率變化約在30％左右，在停止通氫后，把樣品取出，此時可以看到樣品表面的顏色呈深藍色，在空氣中與氧氣充分接觸后快速退色，再測其透射光譜，測試結果如圖4.6、4.7，由圖可知在5min之內三氧化鎢薄膜的透光光譜又回到了初始狀態，說明此三氧化鎢薄膜具有常溫良好的恢復性。其中溶膠凝膠三氧化鎢薄膜摻鉑的樣品較磁控濺射三氧化鎢薄膜摻鉑樣品具有氧氣響應速度快（1min內），恢復性良好的特點，這與它疏松的顯微組織提供了方便離子進出的通道有關。

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