酸化タングステン薄膜は、建築用ガラスに適用してエレクトロクロミックスマートガラスを得ることができる機能性フィルムです。異なる基板溫度が酸化タングステン膜の構造と性能に與える影響を研究するために、一部の専門家は金屬タングステン（純度99.9％）をターゲット材料として使用し、コーティング裝置を使用してパルスDC電源を介してFTO透明導電性ガラス基板上にWO3膜をスパッタ堆積しました。具體的な手順は以下のとおりです。
詳細については、以下をご覧ください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
スパッタリングの前に、コーティングチャンバーの背景真空は 4.5×10-4Pa 未満まで排気されました。作動ガスとして高純度アルゴン（99.9％Ar）、反応ガスとして高純度酸素（99.9％O2）を使用しました。動作圧力は1.7Paに固定され、Ar流量は15sccm、O2流量は13sccmでした。基板溫度を室溫、200℃、300℃、350℃と変化させることで、基板溫度の異なる酸化タングステン膜を堆積し、膜厚を250±10nmに制御した。
