三酸化タングステンは三酸化タングステン薄膜の製造に使用でき、さらに相補型全固體エレクトロクロミック窓の組み立てに使用できる。では、エレクトロクロミック層として機能するWO3薄膜はどのように製造すればよいのでしょうか。電子ビーム蒸発法により作製した専門家がいる。
詳細については、次のページを參照してください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
コンプリメンタリ型全固體エレクトロクロミック窓用三酸化タングステン
純WO3粉末の圧結直徑1 cmの円柱を分析し、蒸発源として黒鉛るつぼ內に置いた。基板は正方抵抗200Ω/ITO膜導電性ガラスであり、10%硫酸を10分間浸漬した後、脫イオン水で數回超音波洗浄し、その後乾燥した。基板溫度は80℃、蒸発成膜速度は9 nm/min、通常の蒸発時間は15 minであった。蒸発したばかりのW 03フィルムは青色を呈していた。
