WO3?TiO2エレクトロクロミック薄膜を製造するために用いられる三酸化タングステンは、第1種であり最も典型的なカソードエレクトロクロミック材料である。エレクトロクロミックが発見されてから數十年、専門家たちはWO3エレクトロクロミック材料とデバイスの製造について深い研究を行った。
詳細については、
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
ここで、既報のWO3薄膜の製造方法としては、スパッタリング法、電著法、真空蒸発法、陽極酸化法、化學蒸著法などが挙げられる。しかし、これらの方法は設備が高価で、技術が複雑であるなどの欠點があり、そのため、それらの応用も制限されている。これに対して、専門家は、WO3薄膜もゾル?ゲル法を用いて製造することができ、製造技術は設備が簡単で、コストが低い利點があると述べた。また、ゾル?ゲル法は大面積フィルムの製造に適している。得られたWO3エレクトロクロミックフィルムにも使用壽命が低く、フィルムの付著力が悪く、ゾルが不安定であるなどの欠點があり、エレクトロクロミック性能が悪い。
