WO3または三酸化タングステンは比較的色コントラストの低い陰極著色材であるため、酸化ニッケルなどの陽極著色材と複合電極相補エレクトロクロミック素子として組み立てる必要がある。ここで、酸化タングステン膜はエレクトロクロミック層として機能する。一方、酸化ニッケルは研究者の第一選択の陽極著色材料として、エレクトロクロミック層としてだけでなく、イオンメモリ層としても使用でき、デバイスの光変調範囲をさらに強化することができる。
詳細については、
http://www.tungsten-powder.com/japanese/tungsten-oxide.html
では、どのようにしてニッケル酸化膜を製造するのでしょうか。酸化ニッケル薄膜の製造方法は主にマグネトロンスパッタリング法、噴霧熱分解法、金屬有機化學蒸著法、ゾル?ゲル法、パルスレーザ蒸著法、分子ビームエピタクシー技術を含む。これらの製造方法にはそれぞれ長所と短所がある。製造方法の違いは、酸化ニッケル薄膜の電気的、光學的、結晶方位、厚さ及び表面形態の違いをもたらす。したがって、調製されたエレクトロクロミック素子は異なるエレクトロクロミック特性を有する。
