濺射法制備三氧化鎢薄膜

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濺射法的基本原理是利用直流或高頻電場(chǎng)使惰性氣體發(fā)生電離，高能惰性氣體離子撞擊固體表面(靶材)，與靶材表面的原子或分子進(jìn)行能量交換，使靶材表面的原子或分子獲得能量并濺射出來(lái)，在襯底上沉積形成薄膜。濺射法中使用最廣泛的是磁控濺射法。用金屬W為靶材，使用Ar和O2的混合氣體，使用磁控濺射法制備出了對(duì)NOx有較好氣敏性的三氧化鎢薄膜。Gavanier·B等利用直流磁控濺射裝置，靶材為99.95％的W，在真空度為2×10－6mbar的反應(yīng)室內(nèi)，Ar(50％)一O2(50％)混合氣氛下，對(duì)混合氣體進(jìn)行直流射頻激發(fā)放電，使三氧化鎢薄沉積在基片上，制得三氧化鎢薄膜。

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