鉭摻雜納米氧化鎢薄膜可以通過雙靶共濺射方法，採用金屬鎢靶和陶瓷五氧化二鉭靶（Ta2O5）作為靶材製備得到。具體地，如何製備得到Ta摻雜納米氧化鎢薄膜？
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鉭摻雜納米氧化鎢薄膜的製備
用直流電源濺射金屬W靶，用射頻電源濺射Ta2O5靶。襯底為氧化銦錫導電玻璃（方塊電阻10-15Ω，Tvis＞80%）和矽片。通入氣體前，將沉積室預抽真空至3x10-4PA以下，然後以高純氬氣作為工作氣體，高純氧氣作為反應氣體，在室溫下預濺射20min，待實驗參數基本穩定後打開擋板進行濺射鍍膜。濺射時通過調節氣體流量、濺射功率和濺射時間等沉積參數來製備不同含量Ta摻雜的氧化鎢薄膜，並確保薄膜厚度的一致。
