WO3薄膜可以採用化學氣相沉積（CVD）法製備得到。專家表示，採用CVD方法可以得到高純度的三氧化鎢薄膜，且能完全控制WO3的形貌。但是，專家還提到，該法成本高，不適用於大規(guī)模製備。
更多內(nèi)容請訪問：
http://www.tungsten-powder.com/traditional/tungsten_oxide.html
這其中，什麼是化學氣相沉積？化學氣相沉積是在反應室中使氣體與原料間發(fā)生化學反應，生成物經(jīng)過成核、生長，最後沉積在襯底上形成薄膜的工藝方法，可分為真空CVD、常壓CVD、低壓CVD、等離子體增強型CVD等。有專家以堇青石蜂窩陶瓷為基體，採用CVD技術(shù)負載TiO2載體，沉浸於V、W化合物溶液中，最終製備出V2O5－WO3/TiO2催化劑材料。
