多孔氧化鎢薄膜的制備

【中鎢在線新聞網-鎢新聞】

將ITO玻璃裁成片作為基底,分別在去離子水、乙醇、丙酮中超聲清洗,用氮氣吹干待用。

在SAJ-450型磁控濺射儀內,以純度為99.99%的金屬鎢為靶材，清潔的ITO玻璃為基底,真空度抽通入Ar氣，保持工作氣壓為6.67Pa,以30W的功率沉積W鍍層。靶基距為8cm,偏壓為-100v,基底溫度為400°C。選擇這些參數可以獲得具有良好結合力的致密w鍍層。沉積1小時獲得的w鍍層厚度約為800nm。

以表面鍍有金屬w的ITO玻璃為陽極，鉑片為陰極，在0.2wt.%的Naf的溶液中進行陽極氧化處理,電壓從開路電位以1Vs-1的速度升至60V，并保持一定的時間。陽極氧化處理后的樣品用去離子水沖洗，在真空烘箱中干燥后,在空氣氣氛中400°C熱處理4h得到透明的氧化鎢薄膜。

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